深圳に拠点を置くファーウェイが最近のIEEE ISCASカンファレンスで先端半導体製造における画期的な手法を発表して間もなく、トランプ政権はオランダの半導体装置大手ASMLの極端紫外線リソグラフィー（EUV）装置の一台が中国の手に渡った可能性があるとの懸念を示した。

ブルームバーグの報道によると、ハワード・ルトニック商務長官は、米国主導の輸出規制にもかかわらずASMLのEUV装置の一台が中国に渡った可能性があるとの懸念を示している。

ASMLはルトニック長官の指摘に反論し、先端コンピューターチップ上に最微細な回路パターンを印刷するために使用されるEUV装置は一台たりとも中国側の手に渡っていないと説明した。この報道は、非公開の会話について匿名を条件に取材に応じた情報筋に基づいている。

ASMLは、稼働中のEUV装置314台すべての所在が世界規模で確認されていると述べている。

同メディアからの詳細：

この問題はASMLへの圧力を高めており、アムステルダム市場では金曜日に株価が最大2%下落した。株価は今年、AIおよびデータセンター建設の需要拡大を背景に最大81%上昇していた。

シティグループのアナリスト、アンドリュー・ガーディナー氏による米政府とASMLの対立に関する第一印象：

ブルームバーグ・インテリジェンスのアナリスト、若杉正宏氏のコメント：

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米国の懸念は、特にファーウェイが先月発表した半導体製造における潜在的な技術革新を受け、中国の先端チップ開発における進展を反映している可能性がある。